“陳浩，你真的當選了1987年《時代周刊》年度風雲人物！”
邱淑偵指着手中《時代周刊》的封面，十分興奮地對陳浩說道。
隻見《時代周刊》的封面，是一張陳浩的特寫照片！
這張特寫照片，正是之前《時代周刊》的一名攝影師拍攝的！
“呵呵！”
“有點意思！”
陳浩呵呵一笑。
他沒有想到自己居然真的被當選爲1987年《時代周刊》的年度風雲人物！
他并不知道，原本1987年的年度風雲人物，應該是蘇聯現任的領導人戈爾岜喬夫！
可是，由于他的重生，使得他取代了戈爾岜喬夫，成爲了1987年的年度風雲人物！
“陳浩！”
“你太厲害了！”
“你居然真的成爲1987年《時代周刊》的年度風雲人物！”
邱淑偵十分興奮地看着陳浩。
能夠當選《時代周刊》的年度風雲人物，基本上都是世界名人。
尤其是這一次的候選人當中，還有一個重量級的人物：蘇聯現任的領導人戈爾岜喬夫！
陳浩居然能夠擊敗戈爾岜喬夫，成爲1987年《時代周刊》的年度風雲人物！
實在是太了不起了！
“隻是一個虛名而已！”
“不必太在意！”
陳浩淡淡地回應了一句。
随後，他啓動車子，離開了紐約市區，朝着阿蒙克市行駛而去！
IBM的總部位于阿蒙克市！
陳浩想要招攬的林苯堅，現在就在IBM公司擔任研發經理！
陳浩之所以想要招攬林苯堅，是因爲林苯堅在光刻機的領域上，有着巨大的貢獻！
“陳浩！”
“你這次前往IBM公司做什麽？”
“難道你想要收購IBM公司？”
邱淑偵十分好奇地看着陳浩。
“呵呵！”
“IBM公司市值太高了，我哪裏有那麽多的錢收購啊！”
“而且，IBM公司現在發展得特别好！”
“不容易收購！”
陳浩呵呵一笑道。
“那你爲什麽要去IBM公司？”
邱淑偵一臉疑惑地看着陳浩。
“因爲IBM公司中，有一個我想要招攬的人才！”
“他的名字叫做林苯堅！”
陳浩說出了他的目的。
“林苯堅？”
“這個人是誰啊？”
“你爲什麽要招攬他？”
邱淑偵一臉的好奇。
“林苯堅是一個十分厲害的高科技人才！”
“他是我們華夏寶島人！”
“他在1963年，獲得了寶島大學電機工程學系學士！”
“1970年，他獲得了鷹國俄亥俄州立大學電機工程學系博士！”
“博士畢業以後，他進入了IBM公司工作！”
“從普通的研究員幹起，一直幹到現在的研發經理！”
“自從他當上研發經理以後，他帶着研發團隊發明出許多世界第一的專利！”
陳浩将林苯堅的基本情況說了出來。
如果沒有他的出現，林苯堅将會在2000年，加入寶島的寶積電，成爲寶積電的技術骨幹，是寶積電‘研發六騎士’之一！
林苯堅最大的貢獻就是發明了‘浸潤式微影技術’，成爲‘浸潤光刻機之父’！
其實，光刻機巨頭ASML之所以能夠發展起來，成爲世界上首屈一指的光刻機巨頭，最主要的原因恐怕就是林苯堅發明的‘浸潤式微影技術’！
依照摩爾定律，每經過18至24個月的時間，在成本保持不變的情況下，芯片上的晶體管數量便會翻倍，性能亦會實現飛躍式的提升。
然而，這一規律在20世紀90年代卻遇到了前所未有的挑戰。
當時，盡管櫻花國和鷹國的光刻機企業衆多，但它們卻共同陷入了一片困境。
原因就在于光刻機的光源波長始終無法突破193nm的瓶頸，無法再進一步縮短。
在半導體制造的領域裏，光源波長的縮短直接關聯着芯片制程的先進性。
櫻花國的呢康公司主張采用157納米F2激光技術，而由鷹國主導的EUV聯盟則力推使用極紫外光技術，其光源波長僅十幾納米。
然而，當時的技術瓶頸使得這兩種先進方案都難以實現。
因此，全球半導體行業在這一時期仿佛陷入了停滞不前的狀态。
就在這個關鍵時刻，林苯堅走進了人們的視線。
在寶積電工作的他，腦海中靈光乍現，提出了一個颠覆性的解決方案。
林苯堅建議，在鏡頭與矽片之間引入一層水，讓光線經過水的折射，将波長降至132納米。
如此，投射到矽片的圖案分辨率将更爲清晰，晶片的密度也可更上一層樓。
他通過不懈努力和反複實驗，證明了這個方案的可行性。
于是，滿懷信心的林苯堅帶着這個方案走向了櫻花國和鷹國知名半導體公司的洽談桌。
然而，對于林苯堅提出的颠覆性方案，櫻花國和鷹國的光刻機巨頭企業卻持謹慎态度。
他們認爲在鏡頭與矽片間加水會産生氣泡并帶來污染風險，這可能會破壞芯片生産中嚴苛的無塵環境，大大降低産品的良品率。
在他們看來，隻有通過深入研究光源技術、降低光源波長才是正道。
面對拒絕，林苯堅像一位執着的工匠，不斷雕琢改良自己的方案，一次又一次地親自上門，展示他的技術實力。
然而，這些努力并未赢得櫻花國和鷹國知名半導體公司的青睐。
面對這樣的困境，林本堅不得不尋找新的合作夥伴。
他瞄準了當時尚未嶄露頭角的ASML公司。
那時的ASML公司規模很小，就像一間小型作坊，整個公司僅有幾十名員工。
在規模和影響力上，ASML遠遠無法與呢康、佳螚等光刻機巨頭相提并論。
然而，正是這家看似不起眼的公司，卻獨具慧眼地認可了林本堅的方案。
他們看到了林本堅的潛力，決定投入資金支持他的研究。
林本堅不負衆望，在ASML公司的鼎力支持下，僅耗時一年，便成功研發出了浸潤式光刻機，其精度達到了前所未有的高度——132nm！
這一成就如同夜空中璀璨的煙花，瞬間點亮了ASML的前程。
一夜之間，ASML從默默無聞的小公司一躍成爲行業的翹楚，打破了呢康、佳螚的壟斷格局。